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四川磁控溅射镀膜机

四川磁控溅射镀膜机的产品介绍:一、用途:磁控溅射镀膜设备主要用于在基片上镀制金属、半导体、电介质、多元素化合物或混合物。利…

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四川磁控溅射镀膜机的产品介绍:

一、用途:

磁控溅射镀膜设备主要用于在基片上镀制金属、半导体、电介质、多元素化合物或混合物。利用溅射法可制备金属膜、半导体膜、绝缘膜、硬质膜、耐热膜、耐腐蚀膜、超导膜、磁性膜、光学膜等各种特殊性能的薄膜。

二、主要技术指标:

1.极限真空度:3.0×10-4Pa(真空室内安装完全的条件下测试)。

2.恢复真空时间:大气→4×10-3Pa≤15min。

3.测试方法:

A.腔体内应清洁、无样品、无镀膜材料。

B.配正华数字复合真空计壹套(两路低真空电阻规,一路高真空电离规),带通讯接口。

C.低真空测量规:ZJ-52型电阻规(玻璃规),其测量范围1×103 Pa~10-1Pa。

D.高真空测量规:金属规(电离规),其测量范围10Pa~10-5Pa。

E.测量规管加金属保护套。

5.真空系统配置:A.分子泵F-250型(一台)(抽速1600L/s,北京泰岳恒)。

6.真空阀门:高真空阀门、低真空阀门、预真空阀门、防喘流阀门均采用活塞式,气缸驱动,气缸采用电磁阀切换汽源,并安装在散热条件好,易于快速维修的位置。

7.放气阀采用气缸控制,设置在抽气室顶部。

8.真空室内密封圈全部采用氟橡胶,能承受高温烘烤,各部分密封安全可靠。

9.真空系统管道采用不锈钢波纹管连接,以减小震动。

10.所有的抽气管道选用..不锈钢材料,并进行抛光处理。

11.低阀、预阀、防湍阀、放气阀等采用304不锈耐酸钢制造。

成都磁控溅射镀膜机

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