G-31B4型高精密双面光刻机

一、主要用途: 

主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。

二、主要性能指标：

1.曝光类型：接触式、版片对准单面曝光；  

2.曝光面积：φ100mm；   

3.曝光不均匀性：≤3%；   

4.曝光强度：≥5mw/cm²；  

5.曝光分辨率：2μm；   

6.曝光模式：单面曝光；

7.对准范围：X:±5mm Y:±5mm；   

8.套刻精度：2μm；

9.旋转范围：Q向旋转调节≤±5°；

10.显微系统：双视场CCD系统，物镜1.6X～10X，计算机图像处理系统，19″液晶监视器；   

11.掩模版尺寸：能真空吸附127×127 mm方形掩板，对版的厚度无特殊要求（1～3mm皆可）；

12.基片尺寸：适用于φ100mm圆形基片，基片厚度≤1mm；

13.曝光：

(1)光源采用GCQ350型高压球形汞灯；

(2)照明范围：≤φ117mm；

(3)光的不均匀性：φ100mm范围内：±3%；

(4)可使用的波长：G线、H线、I线的组合；（即3500－5000埃）；

(5)成像面照明：使用UV－A型表测量，光照度≤5毫瓦/厘米2左右（采用365°测头测量）；

14.采用进口(SMC)时间继电器（该继电器可从0.1秒－999.9秒内任意设定）控制“真空快门”，动作准确可靠；

15.该机为双面接触式曝光机，该机特制的翻版机构，能消除基片楔形误差，掩膜版对基片良好的接触，从而提升基片的曝光质量；

16.分辨率估量：如果用户的“版”、“片”精度符合国家规定、环境、温度、湿度以及房间净化得到严格控制，采用进口“正性”光刻胶，且匀胶厚度和均匀度也得到严格控制的话，本机曝光..小分辨可达0.002mm，建议使用在≥0.003mm以上；

17.对准：

A、 四个单视场变倍显微镜加四个CCD摄像机加19"监视器；

1）四个单视场变倍显微镜的变倍范围1.6X-10X；

2）四个CCD摄像头：平面对角线尺为1/3"；

3）采用19"液晶监视器，其数字放大倍率为19÷1/3=57倍；

观察系统放大倍数为：1.6×57≈91倍（小倍数），10×57≈570倍（大倍数)；

B、对准台

1）该装置装入 127×127 mm板架，对版进行真空吸附；

2）该装置安装在机座上，能作翻转运动，相对于承片台而言作上下翻转运动，以便于版的安装和片的翻面；

3）该装置能来回反复翻转，回到承片台上平面的位置时，重复精度为≤±1.5µ；

4）该装置具有补偿基片楔形误差之功能，让版与片上平面之良好接触，以便提高曝光质量；

C、承片台调整装置：

配备有Φ100 mm承片台一个，这种承片台有二个长方孔，下面二个CCD通过该孔能观察到版或片的下平面；

承片台能作X、Y、Z、θ运动，X、Y、Z可作±4mm运动，θ运动为±5°；

承片台密着环相对于版，能实现“真空密着”。