G-43E6型高精密单面光刻机

一、设备概述

本设备是我公司根据市场需求研发的产品，通常情况下基片尺寸为：Φ6"，对被光刻基片的外形、厚度要求较低，可对多种材料的基片进行光刻。它特别适用进行一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。

二、主要技术参数

1、操作方式：手动；

2、曝光模式：接触式曝光；

3、曝光面积曝光面积：150mm×150mm；

4、紫外光源：g线（436nm）和i线（365nm）；

5、实现“真空密着”曝光，但基片厚度≤2mm；

6、分辨率：Φ100mm范围内≤2um；

7、曝光不均匀性：3%（Φ100mm范围）；5%（Φ150mm范围）；

8、曝光光源：350W汞灯（进口）；

9、曝光强度：≥5mW/cm²；

10、光源平行性：≤3.5°；

11、样品尺寸：Φ150mm；