G-31D4型高精密双面光刻机  

一、设备概述

本设备广泛用于各大、中、小型企业、大专院校、科研单位，它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。

二、主要功能特点

1.适用范围广

适用于φ100mm以下、厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光，双面可同时曝光，亦可用于单面曝光。

2.结构

Z轴采用滚珠直进式导轨和可实现硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构，真空吸版，防粘片机构。

3.操作简便

X、Y移动、Q转、Z轴升降采用手动方式；吸版、反吹采用按钮方式，操作、调试、维护、修理都非常简便。

4.可靠性高

采用进口（日本产）电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件，使本机运行具有非常高的可靠性。

三、主要技术指标

1、曝光类型：接触式、版版对准双面一次曝光；

2、曝光面积：Ф102mm；

3、曝光照度均匀性：≥97%（测量仪器：光强计；测量方法：逐点检测法）；

4、曝光强度：≤30mw/cm²（测量仪器：光强计；测量方法：紫外线照度计测量）；

5、紫外光束角：≤3˚；

6、紫外光中心波长：365nm；

7、光源质保期：1年；

8、工作面温度：≤30℃；

9、采用电子快门；

10、曝光分辨率：1μm(曝光深度为线宽的10倍左右)；

11、曝光模式：双面同时曝光；

12、对准范围：X:±5mm Y:±5mm；

13、板板对准精度：2μm；

14、旋转范围：Q向旋转调节≤±5°；

15、显微系统：双视场CCD系统，物镜1.6X～10X，计算机图像处理系统，19″液晶监视器；总放大倍数91～570倍；

16、掩模版尺寸：能真空吸附5"方形掩板，对版的厚度无特殊要求（1～3mm皆可）；

17、基片尺寸：适用于4"基片，基片厚度0.1－2mm都可以；

18、订货时无特殊要求，标配5"×5版架；可以定制5"×5以下版架；