G-43B4型高精密单面光刻机

一、设备概述:

本设备是我公司根据市场需求研发的产品，通常情况下可曝光基片尺寸为：Φ4"，对被光刻基片的外形、厚度要求较低，可对多种材料的基片进行光刻，它特别适用做一次光刻的产品，可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等，此设备曝光不均匀性：（在Φ100范围内≤4%），所以大大提高了设备的光刻质量。

曝光头及部件图

二、主要技术指标

1.操作方式：手动；

2.曝光模式：接触式曝光；

3.曝光面积：Φ4"；

4.紫外光源：g线（436nm）或i线（365nm）；

5.曝光分辨率：3um；

6.曝光头汞灯为GCQ350W型高压直流球形汞灯；

7.电源：单相AC220V  50HZ ，功耗≤1.5KW；

8.真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；

9.尺寸和重量：

尺寸：机体1000 mm（长）×720 mm（宽）×1600mm（高）。

重量：≤160Kg；