G-25ZD4型高精密单面光刻机

基本尺寸图

一、主要用途

本设备是我公司专门针对各高校及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机，它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产

LED曝光头及部件图

高精度X、Y、Q 调节机构

二、主要技术指标：

1、曝光类型：自动对准，接触式单面曝光；

2、曝光面积：100mm×100mm；

3、光照均匀性：≥97%（测量仪器：光强计；测量方法：逐点检测法）；

4、曝光强度：≤30mw/cm²，（测量仪器：光强计；测量方法：紫外线照度计测量）；

5、紫外光束角：≤3˚；

6、紫外光中心波长：365nm；

7、光源质保期：1年；

8、采用电子快门；

9、曝光分辨率：1μm；

10、对准范围： X、Y ≤ ±1mm；Q≤±1°；

11、对准精度：3.5μm；

12、套刻精度：3.5μm；

13、对位方式：圆点（0.4mm）和圆环方式（1.5mm,1.8mm）；

14、分离量；100μm；

15、曝光方式：接触式单面曝光；

16、装片方式：手动；

17、显微系统：双视场CCD系统，电子显微镜，双物镜距离可调范围40mm～100mm，计算机图像处理系统，19″液晶监视器；

18、掩模版尺寸：≤127×127mm；

19、基片尺寸：≤Φ100mm；

20、基片厚度：≤5 mm；

因基片的厚度不同，制作承片台时需要进行分级处理，单独设计制作，1mm为一个等级(基片厚度:0-5mm可分为五个等级：0-1mm,1-2mm,2-3mm,3-4mm,4-5mm)其中：我公司随机配送厚度为0-1mm等级的承片台，若用户还需其余等级承片台（订货时用户须说明，费用另议）。

21、曝光定时：0～999.9秒可调；

22、设备所需能源：

主机电源： 220V±10%   50HZ，1.5KW。

洁净空气≥0.4MPα。

真空：-0.07～－0.08MPα。

23、G-25ZD4型高精密光刻机的组成：

由LED紫外曝光头、CCD显微显示系统、对准工作台、电气控制系统构成。

24、附件如下：

主机附件：（出厂时安装到机器上的标准配置，用户有特殊要求需订货时提出）

（1）127×127mm掩版夹盘

（2）Φ100mm承片台

（3）显微镜组成

（4）单筒显微镜二个

（5）两个CCD

（6）视频连接线

（7）计算机和19"液晶监视器