G-43D4型高精密单面光刻机

一、设备概述

G—43D4型光刻机是根据高等学府需求研发的产品，可以做100X100mm以下基片，对被光刻基片的外形、厚度要求较低，可对多种材料的基片进行光刻。它特别适用进行一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。按用户要求可提供圆形承片台或方形承片台,不管哪一种承片台，如果基片厚度≤2mm，承片台都能实现“真空密着”曝光,加之光均匀性好，所以大大提高光刻质量。

二、主要技术参数

1、操作方式：手动；

2、曝光模式：接触式一次曝光；

3、光斑尺寸：Ф102mm，配置4"LED专用曝光头，光源质保期：1年；

4、紫外光中心波长：365nm；

5、基片厚度≤5mm。（需要分级，每级级差1mm）；

6、分辨率：1um（所需条件见后面附件1）；

7、光的均匀性：≥97%（测量仪器：光强计；测量方法：逐点检测法）；

8、样品尺寸：Φ100mm（标配）；

9、曝光强度：≤30mw/cm²，（此指标用紫外光源I线365nm测量）；

10、电源：单相AC220V  50HZ ，功耗≤1.5KW；

11、洁净空气压力：≥0.4MPa；

12、真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；