成都精密光刻机的主要用途和主要性能指标：

1、 主要用途：

（1） 这是一台双面对准单面曝光的光刻机；

（2） 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作；

（3） 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。

2、 主要性能指标：

（1） 高均匀性蝇眼曝光头。

a、 采用350W直流球形汞灯；

b、 出射光斑≤φ116mm；

c、 光强≤15mw；

d、 光的不均匀性≤±3%；

e、 光强度可通过光阑或汞灯电流调节，3～15mw任意调节；

f、 曝光时间采用0～999.9秒（日本OMRON生产）时间继电器控制。

g、 对准精度：±0.5μm

h、 套刻精度：1μm

（2） 观察系统为上下各两个无级变倍、高分辨率单筒显微镜上装四个CCD摄像头通过视屏线连接计算机到19″高清液晶显视屏上。

a、 单筒显微镜为0.7X～4.5X连续变倍显微镜；

b、 CCD摄像机靶面对角线尺寸为：1/3″,6mm；

c、 采用19″液晶监视器，其数字放大倍率为17×25.4/6=72倍；

d、 观察系统放大倍数为：0.7×72=50.4倍（*小倍数）

4.5×72=324倍（*大倍数）；

e、右表板上有一视屏转换开关：向左为下二个CCD，向右为上二个CCD。

（3）计算机硬软件系统：

a、鼠标单击“开始对准”，能将监视屏上的图形记忆下来，并处理成透明的，以便对新进入的图形进行对准；

b、鼠标双击左面或右面图形，就分别全屏显示左或右面图形。

（4）非常特殊的板架装置：

a、该装置能分别装入100×100板架或125×125板架，对版进行真空吸附；

b、该装置安装在机座上，能围绕A点作翻转运动，相对于承片台而言作上下翻转运动，以便于上下版和上下片；

c、该装置来回反复翻转，回到承片台上平面的位置，重复精度为≤±1.5μ；

d、该装置具有补偿基片楔形误差之功能，**版下平面与片上平面之良好接触，以便提高曝光质量。

（5）承片台调整装置：

a、 配备有Φ75、Φ100承片台各一个，这二种承片台有二个长方孔，下面二个CCD通过该孔能观察到版或片的下平面；

b、 承片台能作X、Y、Z、θ运动，X、Y、Z可作±5mm运动，θ运动为±5°；

c、 承片台密着环相对于版，能实现“真空密着”：

真空密着力≤-0.05Mpa为硬接触；

真空密着力≤-0.05Mpa～-0.02Mpa为软接触；

真空密着力≤-0.02Mpa为微力接触；

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