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成都精密光刻机

成都精密光刻机的主要用途和主要性能指标:1、 主要用途:(1) 这是一台双面对准单面曝光的光刻机;(2) 这台机器又能完成普通光…

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成都精密光刻机


成都精密光刻机的主要用途和主要性能指标:

1、 主要用途:

(1) 这是一台双面对准单面曝光的光刻机;

(2) 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作;

(3) 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。

2、 主要性能指标:

(1) 高均匀性蝇眼曝光头。

a、 采用350W直流球形汞灯;

b、 出射光斑≤φ116mm;

c、 光强≤15mw;

d、 光的不均匀性≤±3%;

e、 光强度可通过光阑或汞灯电流调节,3~15mw任意调节;

f、 曝光时间采用0~999.9秒(日本OMRON生产)时间继电器控制。

g、 对准精度:±0.5μm

h、 套刻精度:1μm

(2) 观察系统为上下各两个无级变倍、高分辨率单筒显微镜上装四个CCD摄像头通过视屏线连接计算机到19″高清液晶显视屏上。

a、 单筒显微镜为0.7X~4.5X连续变倍显微镜;

b、 CCD摄像机靶面对角线尺寸为:1/3″,6mm;

c、 采用19″液晶监视器,其数字放大倍率为17×25.4/6=72倍;

d、 观察系统放大倍数为:0.7×72=50.4倍(最小倍数)

4.5×72=324倍(最大倍数);

e、右表板上有一视屏转换开关:向左为下二个CCD,向右为上二个CCD。

(3)计算机硬软件系统:

a、鼠标单击“开始对准”,能将监视屏上的图形记忆下来,并处理成透明的,以便对新进入的图形进行对准;

b、鼠标双击左面或右面图形,就分别全屏显示左或右面图形。

(4)非常特殊的板架装置:

a、该装置能分别装入100×100板架或125×125板架,对版进行真空吸附;

b、该装置安装在机座上,能围绕A点作翻转运动,相对于承片台而言作上下翻转运动,以便于上下版和上下片;

c、该装置来回反复翻转,回到承片台上平面的位置,重复精度为≤±1.5μ;

d、该装置具有补偿基片楔形误差之功能,保证版下平面与片上平面之良好接触,以便提高曝光质量。

(5)承片台调整装置:

a、 配备有Φ75、Φ100承片台各一个,这二种承片台有二个长方孔,下面二个CCD通过该孔能观察到版或片的下平面;

b、 承片台能作X、Y、Z、θ运动,X、Y、Z可作±5mm运动,θ运动为±5°;

c、 承片台密着环相对于版,能实现“真空密着”:

真空密着力≤-0.05Mpa为硬接触;

真空密着力≤-0.05Mpa~-0.02Mpa为软接触;

真空密着力≤-0.02Mpa为微力接触;

四川精密光刻机

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