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  • G-33Y4型高精密双面光刻机
    G-33Y4型高精密双面光刻机

    G-33Y4型高精密光刻机 产品介绍:设备概述本设备广泛用于各大、中、小型企业、大专院校、科研单位,主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制和生产,由于本机找平机构先进,找平力

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    G-31D6型高精密光刻机产品介绍:设备概述 本设备广泛用于各大、中、小型企业、大专院校、科研单位,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和

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    G-31D4型高精密光刻机 产品介绍:设备概述 本设备广泛用于各大、中、小型企业、大专院校、科研单位,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、

  • G-33Y6型高精密双面光刻机
    G-33Y6型高精密双面光刻机

    1、 主要用途:(1) 这是一台双面对准单面曝光的光刻机;(2) 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作;(3) 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。2、 主要性能指标:(1) 高均匀蝇眼曝光头。a、

  • G-33D4型高精密双面光刻机
    G-33D4型高精密双面光刻机

    一、主要用途:(1) 这是一台双面对准单面曝光的光刻机;(2) 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作;(3) 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。二、主要性能指标:(1) UV-LED紫外灯平行光光

  • G-33B4型高精密双面光刻机
    G-33B4型高精密双面光刻机

    一、主要用途:(1) 这是一台双面对准单面曝光的光刻机;(2) 这台机器又能完成普通光刻机的任何工作;(3) 同时又是一台检查双面对准精度的检查仪。二、主要性能指标:(1) 高均匀性曝光头。a、 采用

  • G-31B6型高精密双面光刻机
    G-31B6型高精密双面光刻机

    一、主要用途主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。二、设备主要性能指标:1、工作台行程(X向、Y向/Z向/θ向):±5mm/10mm/±

  • G-31B4型高精密双面光刻机
    G-31B4型高精密双面光刻机

    一、主要用途主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。二、主要性能指标:曝光类型:版版对准双面曝光曝光面积:≥φ100mm曝光不均匀性:≤±

  • G-30D4型高精密单面光刻机
    G-30D4型高精密单面光刻机

    一、 主要用途:本设备是我公司专门针对各生产单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。二、 主要性能指标1、曝光类型:

  • G-30B4型高精密单面光刻机
    G-30B4型高精密单面光刻机

    一、 主要用途:本设备是我公司专门针对各大专院校及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种精密光刻机,它主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。二、 主要性能指标1、

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