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G-43B4型高精密单面光刻机

G-43B4型高精密单面光刻机 产品介绍:设备概述: 本设备是我公司根据市场需求研发的产品,通常情况下可曝光基片尺寸为:Φ4&quo…

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G-43B4高精密单面光刻机

产品介绍:

设备概述:

本设备是我公司根据市场需求研发的产品,通常情况下可曝光基片尺寸为:Φ4",对被光刻基片的外形、厚度要求较低,可对多种材料的基片进行光刻,它特别适用做一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等,此设备光的均匀性非常好(在Φ100mm范围内≤±4%),所以大大提高了设备的光刻质量。

主要构成
主要由防震工作台、高均匀性曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。

G-43部件图1e7c8f068b56562cf2ffb223f0559bd








曝光头及部件图

主要功能特点

1. 适用范围广
适用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的一次曝光。
2.
结构先进
本设备配置有可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构;具有真空掩膜版架、真空片吸盘。
3.
操作简便
本设备操作简单,调试、维护、修理等都非常简便。
4.
设备运行稳定、可靠
采用进口电磁阀、按钮、定时器;采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件,使本机具有非常高的可靠性。
5.
特设功能
除标准承片台外,还可以为用户定制专用承片台,来解决非圆形基片、碎片和底面不平 的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题

主要技术指标

1.操作方式:手动;

2.曝光模式:接触式曝光;

3. 曝光面积:Φ4"

4.紫外光源:g线(436nm)或i线(365nm);

5. 曝光分辨率:3um

6. 曝光头汞灯为GCQ350W型超高压直流球形汞灯。


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