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G-43D4型高精密单面光刻机

G-43D4型高精密单面光刻机产品介绍:设备概述: 本设备是我公司根据市场需求研发的产品,可以光刻Φ4"以下基片,对被光刻基片…

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G-43D4高精密单面光刻机

产品介绍:

设备概述:

本设备是我公司根据市场需求研发的产品,可以光刻Φ4"以下基片,对被光刻基片的外形、厚度要求较低,可对多种材料的基片进行光刻。它特别适用进行一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。按用户要求可提供圆形承片台或方形承片台,不管哪一种承片台,都能实现“真空密着”曝光,加之光均匀性好,所以大大提高光刻质量。

G-43部件图baf2cc75492a70a4e4f8f93f0555c05



曝光头及部件图


-主要构成
主要由防震工作台、高均匀性LED4"专用曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。

主要功能特点

1. 适用范围广
适用于Φ100mm以下,厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的一次曝光。
  2. 结构先进
本设备配置有可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构;具

有真空掩膜版架、真空片吸盘。
 3. 操作简便
本设备操作简单,调试、维护、修理等都非常简便。
 4. 设备运行稳定、可靠
采用进口电磁阀、按钮、定时器;采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械

零件,使本机具有非常高的可靠性。
 5. 特设功能
除标准承片台外,还可以为用户定制专用承片台,来解决非圆形基片、碎片和底面不平 的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题

主要技术参数:

1、操作方式:手动。

2、曝光模式:接触式曝光。

3、曝光面积:Φ4",配置4"LED专用曝光头,紫外光源寿命≥2万小时

4、紫外光源:365nm。

5、实现“真空密着”曝光,但基片厚度≤2mm。

6、分辨率:2um

7、 光的不均匀性:≤±3%;

8、样品尺寸:Φ100mm。

9、曝光强度:0~30mw/ cm2可调(此指标用紫外光源I线365nm测量)。






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