G-31D4型高精密双面光刻机
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一、主要用途和特点机采用特制翻版机构，能消除基片楔形误差，确保掩膜版与基片两面良好接触，保障曝光质量。主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路、电力电子器件的研制和生产。二、主要性能指标1、曝光
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