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光刻机厂家制造瓶颈在哪里?

所属分类:最新活动    发布时间: 2021-05-28    作者:admin
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光刻机是芯片制造必不可少的设备,有了光刻机才能顺利生产芯片。目前世界上..的光刻机为EUV光刻机。为什么说光刻机很难制作,你真的知道其中原因吗?

光刻机是芯片制造中必不可少的精 密设备。其难度甚至超过航空发动机。

首先是在技术上的难度:

光刻机可以说每个部件都是科技含量很高,步步困难重重。

瓶颈主要集中在透镜、掩膜版、光源、能量控制器等。

下面简单单介绍光刻机的结构和工作原理:

光刻机的光源有:激光,紫外光、深紫外光、极紫外光。现在先进技术是极紫外光。

光刻机厂家

在制造芯片时,首先在晶圆(硅晶片)表面涂光感胶,再用光线透过掩模版(相当于芯片电路图纸的底片)照射硅片表面,被光线照射到的光感胶会发生反应。此后用特定溶剂洗去被照射或者未被照射的胶,电路图就印到硅片上。

此过程相当于木匠施工用墨斗放样、划线。

硅片上有了电路图的图样后,就轮到刻蚀机登场,刻蚀机相当于木匠的锯子、斧头、凿子、刨子。刻蚀机按图施工,在硅片表面雕刻出晶体管和电路。

芯片主要是精度要求高。纳米精度是什么概念呢?是我们肉眼无法分辨的,大概相当于一根头发丝的5000分之一纳米细小。

光刻机几个关键部件:

光源:必 须稳定、高质量地提供指定波长的光束。

能量控制器:就是电源。电源要稳定、功率要足够大,否则光源发生器没办法稳定工作。大、稳、同时要考虑经济性能。耗电太高,客户就用不起。

掩膜版:通俗点理解,相当于过去用胶片冲洗照片时的底片。底片如果精度不够,是洗不出来高精度照片的。光刻机施工前,要根据设计好的芯片电路图制作掩膜板。掩膜板材质是石英玻璃,玻璃上有金属铬和感光胶。通过激光在金属铬上绘制电路图。精度要求非常高。

透镜:用透镜的光学原理,将掩膜版上的电路图按比例缩小,再用光源映射的硅片上。光在多次投射中会产生光学误差。要控制这个误差。精度要求很高。

就是测量台移动的控制器,也是纳米级精度,要求超 高。

荷兰的ASML公司垄断了高 端光刻机。但其透镜来自德国的蔡司,自己也做不了。光源是美国的Cymer。所以说它也不是完全技术独立。主要是技术难度太大。

其次是资金上的困难:

光刻机由于技术难度大,研发资金投入巨大,以至于佳能和索尼都亏损严重,已经停止研发,退出未来技术的竞争。

荷兰的ASML,为了筹集资金,同时也是进行上下游利益捆绑,研发风险共担,邀请英特尔、三星和台积电出资,做自己的大股东。ASML实际上是美、日、韩、德等共同投资的项目,资金充裕。

中国也在此方面有长期投入,但投入水平和不能和多国合作同日而语。中国有相对宽裕的研发资金,也才是近7、8年的事情,而光刻机的研发,10年都显然不够。

我们能不能也参与到荷兰的ASML的研发中呢?是不行的。因为发达国家之间,由美国牵头,搞了个《瓦森纳协定》,专门对中国进行技术禁运,技术封锁的。我们也买不到荷兰的ASML新的光刻机,更别说参股和技术合作了。

目前我们还在追赶,量产的是上海微电子的90纳米的,离ASML的10 纳米的差距很大。下一步,随着长春光机所的极紫外光技术的突破,有望冲击22-32纳米的技术。那时荷兰可能进入7纳米时代。虽然和7纳米还有很大差距,但如果能实现,进步也是惊人的。

光刻机厂家

以上内容就是鑫南光光刻机厂家为大家介绍的光刻机的相关内容。成都鑫南光机械设备有限公司专业提供在微电子工艺生产方面使用的多种型号光刻机;在真空钎焊、陶瓷金属化、烧氢退火工艺等方面使用的各型真空炉、氢气炉;在零件真空干燥(储存)柜、真空镀膜机等设备的设计和制造方面,公司均有自己独特的专长。




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